第1183章 一个新的时代,即将来临(第1/4 页)
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“陈总,这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论,采用湿式以水为媒介,从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右,但我们随时可以进入到65纳米行例。”
“也就是说,一旦我们的浸润式光刻机上马,我们的技术水平将可以和asml比肩。同时,我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”
中心国际一处秘密研究基地,林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。
“好,很好。”
看着眼前这一台光刻机,陈宇同样的有些激动。
前世,国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。
当然。
这倒不是说前世国人做不出光刻机。
其实光刻机技术国人是掌握的,但要做出达到全球顶尖制程的光刻机,那就不是那么容易的事了。
截止到2021年,前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。
但asml已经达到5纳米,3纳米,甚至往2纳米方向进军。
这是几十倍的差距。
同样也是几代水平的差距。
真按这样的差距进行追赶,恐怕得100年。
幸好。
早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。
在他的湿式光刻理论的帮助之下,全球第一台浸润式光刻机就此诞生。
“陈总,这台光刻机还不是我们最为先进的,在湿式光刻理论的支持之下,我们的制程在未来还可以大幅度的进行提高。目前全球最高制程水平是65纳米,这已经很难再进步了。但我们却才刚刚开始,未来我们将进入45纳米,28纳米,20纳米,10纳米,甚至是7纳米之例……”
说到技术,林本坚却是滔滔不绝。
对于他来说,能将自己的理论得已实现,这是最为激动人心的事。
而且他知道,一旦他们的光刻机上马,他将改变全球芯片的进程,甚至改变全球半导体行业的格局。
“林总工,辛苦了。”